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Nanomatériaux ET SÉCURITÉ –  Vendredi 24 avril

07h30

Accueil : inscriptions et café
(Foyer International & Cartier - niveau 3)

 

08h00

Mot de bienvenue

 
 

Session 1: Matériaux de nouvelle génération
Salle Cartier- niveau 3

 

08h30

Les nouveaux matériaux et la nanotechnologie
Suong Van Hoa, Concordia, Canada
Abstract available

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09h00

Synthèse par Plasma de nanomatériaux métalliques et céramiques: outils de développement technologique
Maher Boulos, Tekna Plasma Systèmes, Canada
Résumé disponible

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09h30

Nanocellulose cristalline (NCC) : Le Canada à l’avant-garde
Jean Bouchard, FPInnovations - Division Paprican, Canada
Abstract available

T

10h00

Visites des kiosques et séance d’affichage / Pause-santé
(Foyer International & Cartier - niveau 3)
 

 

Session 2: Nanomatériaux et sécurité
Salle Cartier- niveau 3

 
10h30

L'état des lieux et des connaissances en matière de santé et de sécurité au travail (métrologie, effets sur la santé, protection et ventilation)
Dr Charles Geraci, National Institute for Occupational Safety and Health, USA
Présentation disponible

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11h15

Guide de bonnes pratiques pour le travail sécuritaire avec des nanoparticules dans les laboratoires de recherche et dans les milieux de travail
Claude Ostiguy, IRSST, Canada
Abstract available

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11h55

Remise du prix de la session d'affiche

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12h00

Dîner – buffet réseautage
(Foyer International & Cartier - niveau 3)

 
13h00

Vêtements de protection contre les nanoparticules
Dr Toan Vu-Khanh, ÉTS
Résumé disponible

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13h30

Le GoodNanoGuide : un forum interactif pour le développement de bonnes pratiques pour la manipulation sécuritaire des nanomatériaux
Mr Matthew Jaffe, Crowell & Moring
Présentation disponible

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Session 3: Nanomatériaux et MEMS
Salle Cartier- niveau 3

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14h00

Remise des prix NANO 2009

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14h05

Characteristics of Metal-CNT Composites Prepared by Plating Technology
Prof. Susumu Arai, Shinshu University, Nagano, Japon
Abstract available

T
14h30

Forum : L'avenir de la microélectronique au Québec
Conférenciers:
Dave Danovitch, IBM
Dan Gale, CMC Microsystems
Andrew Kirk, Université McGill
Luc Ouellet, DALSA Semiconductor

T

16h00

Clôture

 

 

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